来場者数のお知らせ

 ご来場ありがとうございました。
 
会期 天気 来場者数
8月31日(水)
晴れ時々曇り
6,057
9月1日(木)
曇り
6,228
9月2日(金)
晴れのち曇り
6,327
合  計
18,612

 

 ●開催規模:43社・団体 86小間


開催概要

名称: 2011地球環境保護 土壌・地下水浄化技術展
テーマ: 環境にやさしい浄化技術 企業活動と自然の共生をめざして
会期: 2011年8月31日(水)−9月2日(金) 10:00−17:00
会場: 東京ビッグサイト 西ホール
入場料: 1,000円(招待券持参者・インターネット事前登録者及び学生は無料)
主催: 社団法人土壌環境センター社団法人日本産業機械工業会日本産業洗浄協議会
フジサンケイ ビジネスアイ
後援: 経済産業省/農林水産省/環境省
特別協賛: 独立行政法人中小企業基盤整備機構、日本真空工業会、一般社団法人日本真空協会
協賛: 公益社団法人化学工学会/(社)環境科学会/公益社団法人地盤工学会/
公益社団法人全国産業廃棄物連合会/(社)全国地質調査業協会連合会/
公益社団法人土木学会/日本科学機器団体連合会/一般社団法人日本環境化学会/
(財)日本環境協会/(社)日本建築学会/(社)日本水道協会/公益社団法人日本地下水学会/
一般社団法人日本地質学会/(社)日本農芸化学会/(社)日本不動産鑑定協会/
一般社団法人廃棄物資源循環学会

展示内容

土壌・地下水汚染対策に関するすべての製品・技術・サービス情報を公開します!

同時開催展示会

本展の来場者証で下記の同時開催展も無料にてご覧いただけます。

2011地球環境保護国際洗浄産業展 洗浄機器、洗浄剤などの産業洗浄に関する展示会です。
■主催:日本産業洗浄協議会/(社)日本産業機械工業会/
フジサンケイ ビジネスアイ
VACUUM2011-真空展 半導体、フラットパネル、太陽電池、記録媒体、電子部品等の薄膜製造技術を中心とした真空機器、装置の展示会です。
■主催:日本真空工業会/一般社団法人日本真空協会
第13回自動認識総合展 バーコード、2次元シンボル(QRコード等)、RFID(ICタグ)、バイオメトリクス、カード等の最先端自動認識製品・技術・ソリューションの総合展示会です。
■主催:一般社団法人日本自動認識システム協会


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